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题名/责任者:

钨合金界面性质的理论模拟/张旭著

出版发行项:

北京:冶金工业出版社,2023

ISBN及定价:

978-7-5024-9665-4/CNY72.00

载体形态项:

126页:图;24cm

并列正题名:

Theoretical simulation on the properties of W alloy interfaces

个人责任者:

张旭 著

学科主题:

钨合金-界面-性质-研究

中图法分类号:

TG146.4

相关题名附注:

英文并列题名取自封面

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

本书主要采用钨合金作为核聚变堆中面向等离子体的第一壁材料进行探索。全书共6章, 主要介绍了界面及杂质在界面偏聚对钨合金性能的影响机理及其理论研究的新进展, 包括: 钨与碳化锆、碳化钛和氧化锆等界面的特点, 杂质在钨/碳化物界面的偏聚行为, 从热力学的角度分析了界面的稳定性、结合强度及杂质在界面的偏聚行为, 界面的电子特征与成键特点, 以及对理论研究的潜在应用价值和意义进行讨论。

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